photomask
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HS903141
반도체 웨이퍼와 소자(집적회로를 포함한다) 검사용이나 반도체 소자(집적회로를 포함한다) 제조에 사용되는 포토마스크(photomask)나 레티클(reticle) 검사용
For inspecting semiconductor wafers or devices (including integrated circuits) or for inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices (including integrated circuits)
HS90319010
반도체 제조용[반도체 웨이퍼와 소자 검사용이나 반도체 소자 제조에 사용되는 포토마스크(photomask)나 레티클(reticle) 검사용의 것을 포함한다]
For the purpose of semiconductor manufacturing (including inspecting semiconductor wafers or devices or for inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices)
포토마스크 Photomask
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